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透射电镜(TEM) 发布时间:2018-10-12 19:36:14

1. 设备型号

TF20 场发射透射电镜,配备能谱仪


TF20 场发射透射电镜



2.原理

透射电子显微镜(Transmission electron microscope,缩写TEM),简称透射电镜,是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。散射角的大小与样品的密度、厚度相关,因此可以形成明暗不同的影像,影像将在放大、聚焦后在成像器件(如荧光屏、胶片、以及感光耦合组件)上显示出来。


3. 主要规格及技术指标

最高加速电压

200KV

电子枪

场发射(FEG

点分辨率

0.24nm

晶格分辨率

0.14nm

最小束斑尺寸

1.5nm

放大倍数

25X~1030KX

样品台最大倾转角

A±40° B±40°

X射线能谱分辨率

136eV

分析范围

Be~U

 

4. 主要功能及应用范围

观察各种材料的微观结构并对样品进行纳米尺度的微区分析,如:

形貌观察;

高分辨电子显微像;

电子衍射;

会聚束电子衍射;

衍射衬度成像;

X射线能谱分析等。


5. 送样需知

5.1粉末样品基本要求

1)单颗粉末尺寸最好小于1μm

2)无磁性;

3)以无机成分为主,否则会造成电镜严重的污染,高压跳掉,甚至击坏高压枪;


5.2块状样品基本要求

1)需要电解减薄或离子减薄,获得几十纳米的薄区才能观察;

2)如晶粒尺寸小于1μm,也可用破碎等机械方法制成粉末来观察;

3)无磁性;


6. 案例分析


1FIB+HRTEM+EDS 半导体薄膜领域

FIB+HRTEM+EDS 半导体薄膜领域


2FIB+TEM+EDS 半导体LED领域

FIB+TEM+EDS 半导体LED领域


(3)磨抛+离子减薄+HRTEM 量子阱领域











 

 

 



4FIB+HRTEM+EELS  纳米线截面观察及能谱分析

FIB+HRTEM+EELS  纳米线截面观察及能谱分析


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