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TEM制样离子减薄仪(PIPS) 发布时间:2022-05-13 08:55:28

氩离子抛光切割机CP离子研磨截面抛光仪   副本.jpg

TEM制样离子减薄仪(PIPS)


应用领域:

离子减薄仪为一种在材料科学领域普遍应用的仪器,主要用于陶瓷、半导体、金属和合金等多种材料的透射电子显微镜(TEM)样品的制备。离子减薄仪有着较快的制样速度,可以以最小的耗费制备高质量的TEM样品,该仪器配备低能量离子枪和液氮冷台,对能量敏感性和温度敏感性样品的减薄特别适合。


原理:

氩气的电离采用高压来进行,在电场是作用下,电离后的氩离子对样品表面进行轰击。在氩离子的持续轰击下,样品慢慢减薄,一直到使透射电镜观察要求满足,此即为离子减薄仪的工作原理。氩离子抛光仪和离子减薄仪有着相同的原理,也是通过氩离子对样品表面进行轰击,使得样品表面变得平整光滑,因此该仪器大体上不需要太多的改变。


离子减薄仪具备样品切割和抛光两项功能:该设备配温控液氮冷却台,去除热效应对样品的损伤,有助于避免抛光过程中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化;同时配备配碳/备镀膜,对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜,防止样品氧化,可以用于SEM/FIB导电镀膜样品的制作。


技术优势:

1.两支独立可调电磁聚焦离子枪;

2.同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复);

3.超宽加速电压范围:100eV - 10kV,不同加速电压下,离子束束斑均保持理想束斑状态;

4.每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测;

5.采用可调节10英寸触屏控制系统,人机界面友好,操作简洁;

6.减薄角度范围:-15°到 +10°连续可调;

7.样品载台X-Y可调,可根据需要调整样品减薄位置;

8.具备原位实时观察及记录减薄过程功能;

9.样品可360°连续旋转或摇摆,离子束自动避让样品夹;

10.可选液氮冷台配置,去除热效应对样品的损伤;

11.可选真空或惰性气体转移装置,隔绝样品与水氧接触。


样品要求:

离子减薄仪为专门为透射样品的制备而设计的仪器制备,样品要求为厚度为三十微米,直径为三毫米的薄片。为使设备工作条件得到满足,需要预处理样品,首先将样品切割成一毫米厚的薄片,再从粗到细选择砂纸对样品表面进行打磨。


透射电镜所需样品具有非常小的尺寸,需要在载片中间的小孔上粘样品。扫描电镜观察的样品尺寸要远远大于透射样品。为了使效率提高,样品一次能够多放几个,在样品台上用热熔胶固定,然后对电压、氩离子流,样品倾角、抛光时间等工作参数进行调整。工作电压和氩离子流的增加能够使抛光效率有所提高,若这两个参数过高,容易损伤样品。


案例分析:      

减薄样品在TEM中观察效果:

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